简要描述:英国光栅刻蚀三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它具有高耦合效率和非常好的起辉性能,非常适用于加工各种材料和结构。
更新时间:2024-10-10日本倾斜角RIE等离子蚀刻机的简介:日本倾斜角刻蚀代表了直接置片等离子刻蚀机家族,它结合了RIE的平行板电极设计和直接置片的成本效益设计的优点。Etchlab200的特征是简单和快速的样品加载,从零件到直径为200mm或300mm的晶片直接加载到电极或载片器上。灵活性、模块性和占地面积小是Etchlab200的设计特点。
更新时间:2024-10-10简要描述:进口深硅刻蚀:三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它具有高耦合效率和非常好的起辉性能,非常适用于加工各种材料和结构。
更新时间:2024-10-10简要描述:ICP-RIE等离子刻蚀机三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀等离子体。它具有高耦合效率和非常好的起辉性能,非常适用于加工各种材料和结构。
更新时间:2024-10-1018210898984
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