article
相关文章电浆辅助式化学气相沉积设备
电浆辅助式化学气相沉积设备(PECVD)是一種使用電漿的化學氣相沉積(CVD)技術,可為沉積反應提供一些能量。與傳統的CVD方法相比,PECVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。
电浆辅助式化学气相沉积设备PECVD比半導體行業中的其他CVD技術更廣泛地使用,且可以在較低的工作溫度(低於350°C)下沉積薄膜,並具有不同形狀的均勻沉積與良好的覆蓋率。SYSKEY的系統可以精準的控制製程氣體與監控其數據(壓力、載台溫度),並提供高品質的薄膜。
我們也開發不同機器但共用零組件,以達到節省成本。
應用领域 | 腔體 |
|
|
配置和優點 | 選件 |
|
|
18210898984
扫码添加微信
点
击
隐
藏